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15720490226 半導(dǎo)體工藝混合廢氣處理方法
半導(dǎo)體工藝廢氣的主體是VOCs，同時(shí)廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險(xiǎn)污染物。
目前，半導(dǎo)體廠廢氣處理方法一般采用吸附法、焚燒法或兩者結(jié)合的方法。從半導(dǎo)體生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)揮發(fā)出的有機(jī)廢氣經(jīng)就地排氣罩收集后，經(jīng)管道送至吸附凈化系統(tǒng)。焚燒也是處理流量和濃度穩(wěn)定的廢氣的好方法。
也有部分半導(dǎo)體企業(yè)有機(jī)廢氣處理方法采用以下設(shè)備：
采用RTO設(shè)備處理
RTO蓄熱式氧化爐是在高溫下將可燃廢氣氧化成氧化物和水，凈化廢氣，并回收廢氣分解時(shí)所釋放出來(lái)的熱量，廢氣分解效率達(dá)到99%以上，熱回收效率達(dá)到95%以上。
直接燃燒法處理
有機(jī)廢氣風(fēng)管廢氣收集→沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮→直燃爐（TO）→煙囪排氣達(dá)標(biāo)排放。
焚燒法也廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)的各種有機(jī)廢氣處理，有機(jī)物通過(guò)熱氧化轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水。由于半導(dǎo)體工業(yè)中的廢氣焚燒產(chǎn)生二氧化硅，二氧化硅鈍化催化劑，接觸氧化在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用較少。
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